金相(xiang)試樣(yang)制備過程一(yi)般包括：取樣(yang)、粗磨、細磨、拋(pao)光和浸蝕(shi)五個步驟。

1）取樣

從(cong)需(xu)要檢測的(de)(de)金屬材(cai)(cai)料(liao)和(he)(he)(he)零件上截取(qu)(qu)(qu)試樣(yang)(yang)稱(cheng)為“取(qu)(qu)(qu)樣(yang)(yang)"。取(qu)(qu)(qu)樣(yang)(yang)的(de)(de)部位和(he)(he)(he)磨面(mian)的(de)(de)選擇必(bi)須(xu)根據分析要求(qiu)而定(ding)。截取(qu)(qu)(qu)方法(fa)(fa)有多種(zhong)(zhong)，對于軟材(cai)(cai)料(liao)可以(yi)用(yong)鋸、車(che)、刨等方法(fa)(fa)；對于硬材(cai)(cai)料(liao)可以(yi)用(yong)砂輪切(qie)片機或線(xian)切(qie)割機等切(qie)割的(de)(de)方法(fa)(fa)，對于硬而脆的(de)(de)材(cai)(cai)料(liao)可以(yi)用(yong)錘擊的(de)(de)方法(fa)(fa)。無論用(yong)哪種(zhong)(zhong)方法(fa)(fa)都應注意，盡量(liang)避(bi)免(mian)和(he)(he)(he)減輕因塑(su)性變形或受熱引起的(de)(de)組織(zhi)失真現象。試樣(yang)(yang)的(de)(de)尺(chi)寸(cun)并(bing)無統(tong)一規(gui)定(ding)，從(cong)便于握持(chi)和(he)(he)(he)磨制(zhi)角度考慮，一般(ban)直徑(jing)或邊(bian)長為15~20mm，高為12~18mm比較適宜。對那些尺(chi)寸(cun)過小(xiao)、形狀不規(gui)則和(he)(he)(he)需(xu)要保護邊(bian)緣的(de)(de)試樣(yang)(yang)，可以(yi)采取(qu)(qu)(qu)鑲(xiang)嵌或機械(xie)夾持(chi)的(de)(de)辦法(fa)(fa)。

金相試樣的(de)鑲嵌，是(shi)利用熱(re)塑(su)性塑(su)料(liao)(liao)(如(ru)聚氯乙烯(xi))，熱(re)凝性塑(su)料(liao)(liao)(如(ru)膠木粉)以及冷凝性塑(su)料(liao)(liao)(如(ru)環氧樹脂(zhi)+固化劑)作為(wei)填料(liao)(liao)進(jin)行的(de)。前兩種屬于(yu)熱(re)鑲填料(liao)(liao)，熱(re)鑲必須在專用設備一鑲嵌機上(shang)進(jin)行。第三種屬于(yu)冷鑲填料(liao)(liao)。

2）粗磨

粗磨的(de)目的(de)主要(yao)有以下三點：

1. 修(xiu)整 有些試樣(yang)，例如用錘擊法(fa)敲下來(lai)的(de)試樣(yang)，形(xing)(xing)狀很不規則(ze)，必須經過粗磨，修(xiu)整為規則(ze)形(xing)(xing)狀的(de)試樣(yang)；

2. 磨平(ping)(ping) 無論(lun)用什么方法取樣，切(qie)口往(wang)(wang)往(wang)(wang)不十分(fen)平(ping)(ping)滑，為(wei)了將觀(guan)察面磨平(ping)(ping)，同時去掉切(qie)割時產生的變(bian)形層(ceng)，必須進行粗磨；

3. 倒(dao)角 在不(bu)影(ying)響觀察目的(de)的(de)前(qian)提下，需(xu)將試樣上的(de)棱角磨(mo)掉(diao)，以(yi)免劃破(po)砂紙和(he)拋(pao)光織物。

3）細磨

粗(cu)磨(mo)后的試樣(yang)，磨(mo)面上仍有較粗(cu)較深(shen)的磨(mo)痕，為了(le)消除這些磨(mo)痕必須進行細磨(mo)。細磨(mo)，可分為手工磨(mo)和機(ji)(ji)械(xie)(xie)磨(mo)兩種， 目前機(ji)(ji)械(xie)(xie)磨(mo)是主要的磨(mo)樣(yang)方式。

目前普遍使用的(de)(de)機械磨(mo)(mo)(mo)設備是(shi)預磨(mo)(mo)(mo)機。電動機帶(dai)動鋪著水(shui)砂紙的(de)(de)圓盤轉(zhuan)動，磨(mo)(mo)(mo)制(zhi)時，將試(shi)樣沿盤的(de)(de)徑向來回移動，用力(li)要均(jun)勻，邊(bian)磨(mo)(mo)(mo)邊(bian)用水(shui)沖(chong)。水(shui)流既(ji)起到冷卻試(shi)樣的(de)(de)作用，又可以(yi)借助離心力(li)將脫落砂粒(li)、磨(mo)(mo)(mo)屑(xie)等(deng)不(bu)斷地沖(chong)到轉(zhuan)盤邊(bian)緣。機械磨(mo)(mo)(mo)的(de)(de)磨(mo)(mo)(mo)削速度比(bi)手(shou)工磨(mo)(mo)(mo)制(zhi)快得(de)多，但平整度不(bu)夠好，表面(mian)變形層也(ye)比(bi)較(jiao)(jiao)嚴重。因(yin)此要求較(jiao)(jiao)高的(de)(de)或材質較(jiao)(jiao)軟(ruan)的(de)(de)試(shi)樣應該(gai)采用手(shou)工磨(mo)(mo)(mo)制(zhi)。

4）拋光

拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)的(de)目(mu)的(de)是(shi)去除細(xi)磨后(hou)遺留在磨面(mian)上的(de)細(xi)微磨痕，得到光(guang)(guang)(guang)(guang)亮無痕的(de)鏡面(mian)。拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)的(de)方(fang)法(fa)有(you)機械拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)、電解拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)和化學拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)三種，其(qi)中常用的是(shi)機械拋光(guang)。機械拋光(guang)在拋光(guang)機上(shang)進行，將(jiang)拋光(guang)織(zhi)物（粗拋常用帆布，精拋常用毛呢）用水浸濕、鋪平(ping)、繃緊并固定在拋光(guang)盤上(shang)。

啟動(dong)開關使拋(pao)(pao)光盤(pan)逆時針轉(zhuan)動(dong)，將適量(liang)的拋(pao)(pao)光液(氧化鋁、氧化鉻或氧化鐵拋(pao)(pao)光粉加水的懸浮液)滴灑在(zai)盤(pan)上即可進(jin)行拋(pao)(pao)光，拋(pao)(pao)光時應注意：

1. 試樣沿(yan)盤的徑(jing)向往返(fan)緩慢移動，同時(shi)逆拋(pao)光盤轉向自轉，待拋(pao)光快結(jie)束時(shi)作短時(shi)定位(wei)輕(qing)拋(pao)。

2. 在(zai)拋(pao)光(guang)過(guo)程中，要經常滴(di)加適量的(de)拋(pao)光(guang)液或清水，以(yi)保持(chi)拋(pao)光(guang)盤(pan)的(de)濕度(du)，如發現拋(pao)光(guang)盤(pan)過(guo)臟(zang)或帶有粗(cu)大(da)顆粒時，必須(xu)將其沖(chong)刷干凈后再繼續(xu)使用(yong)。

3. 拋(pao)光時間應盡量縮短，不可過長(chang)，為滿足(zu)這一要求可分粗(cu)拋(pao)和精拋(pao)兩(liang)步進(jin)行。

4. 拋有色金屬(如(ru)銅、鋁及其合金等)時，最好(hao)在(zai)拋光盤(pan)上涂少許(xu)肥皂或(huo)滴加適量(liang)的肥皂水。

5）浸蝕

拋光后(hou)的(de)試樣在金相(xiang)顯微鏡下觀察，只能看到光亮的(de)磨面，如(ru)果有劃痕、水(shui)跡(ji)或材料中的(de)非金屬夾雜物、石墨(mo)以及裂紋等也可(ke)以看出來，但(dan)是要(yao)分(fen)析金相(xiang)組織還必須進行浸(jin)蝕。

浸(jin)蝕的方法(fa)有多種，常用的是(shi)化學(xue)浸蝕(shi)法(fa)，利用(yong)浸蝕(shi)劑對試樣的化學(xue)溶解(jie)和(he)電化學(xue)浸蝕(shi)作用(yong)將組織顯露出來。

純金屬(或單相均勻固溶(rong)體(ti))的浸蝕基本上為化學(xue)溶(rong)解過程(cheng)(cheng)。位于晶(jing)(jing)界(jie)處的原(yuan)子和晶(jing)(jing)粒內部(bu)原(yuan)子相比，自由能較(jiao)高(gao)，穩定性較(jiao)差(cha)，故易受(shou)浸蝕形成凹(ao)溝。晶(jing)(jing)粒內部(bu)被浸蝕程(cheng)(cheng)度較(jiao)輕，大體(ti)上仍保(bao)持(chi)原(yuan)拋光平面。在明場(chang)下觀察，可以看(kan)到(dao)一個(ge)個(ge)晶(jing)(jing)粒被晶(jing)(jing)界(jie)隔開。如浸(jin)蝕較深，還可(ke)以發現(xian)各個晶粒明暗程度不(bu)(bu)同(tong)的現(xian)象(xiang)。這是因為每(mei)個晶粒原(yuan)子排(pai)列的位向不(bu)(bu)同(tong)，浸(jin)蝕后，以最密排(pai)面為主的外露面與原(yuan)拋光(guang)面之間傾斜程度不(bu)(bu)同(tong)的緣故。

經檢查后合格的(de)試(shi)樣(yang)可(ke)(ke)以放在浸蝕(shi)(shi)劑(ji)中，拋光(guang)面(mian)(mian)朝上，不斷(duan)觀察(cha)表面(mian)(mian)顏色(se)的(de)變化。這是浸蝕(shi)(shi)法。也(ye)可(ke)(ke)以用(yong)(yong)(yong)沾有(you)浸蝕(shi)(shi)劑(ji)的(de)棉花輕輕擦拭拋光(guang)面(mian)(mian)，觀察(cha)表面(mian)(mian)顏色(se)的(de)變化。此(ci)為擦蝕(shi)(shi)法。待試(shi)樣(yang)表面(mian)(mian)被浸蝕(shi)(shi)得略顯灰(hui)暗時即刻取(qu)出，用(yong)(yong)(yong)流(liu)動(dong)水沖洗(xi)后在浸蝕(shi)(shi)面(mian)(mian)上滴些(xie)酒精，再用(yong)(yong)(yong)濾紙吸去過多(duo)的(de)水和酒精，迅速(su)用(yong)(yong)(yong)吹(chui)風機(ji)吹(chui)干(gan)，完成整個(ge)制備試(shi)樣(yang)的(de)過程。